高周波誘導加熱式によるマイクロ引下げ結晶育成装置です.



≫連続チャージ・製造が可能(オプション)
≫形状制御結晶育成
≫高速作製のため、評価材料育成に最適
≫デバイス製造コスト低減可能

≫装置本体
≫高周波電源
≫CPUユニット(オプション)
≫除振装置(オプション)
≫連続供給機構(オプション)