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ガスアトマイズ装置粉末作成装置

高周波誘導加熱により、真空排気後の不活性ガス雰囲気中又は大気中において試料の溶解を行い、 高圧のガスを吹きつけ球状の数十μm程度の粉末を作成します。 オプションにて水アトマイズ法、フリーフォールガスアトマイズ、法回転ディスク法への切替も可能です。

ガスアトマズ装置

特長

  • 真空溶解および噴射室真空排気により酸化を防ぎます。
  • 作業性を重視し短時間作業が可能です。(例:3Kg溶解60分)
  • 高融点材料も容易に粉末を作成できます。
  • 溶融ノズルとガスジェットノズルの位置だしは、上下調整機構により手軽にそして正確にできます。
  • 粉末は100μm以下で高回収率です。(平均粒径20~60μm)

基本仕様

型 式 方式 溶解量
(鉄換算)
溶解温度
(常用)
高周波電源
NEVA-GP2 外熱方式 1~2Kg 1400℃ NET-20I
NEVA-GP4 外熱方式 3~4Kg 1400℃ NET-30I
NEV-GP5 内熱方式 3~5Kg 1600℃ NET-30I
NEV-GP10 内熱方式 6~10Kg 1600℃ NET-30I
NEVT-GP30 内熱方式 20~30Kg 1600℃ NET-50I
高周波電源は一例です。条件によりお選びいただけます。
その他、上記以外の仕様についても対応いたします。お問い合わせください。