光学超多層膜用電子ビーム源
NEG-10N型

270°偏向ビームで、ビームスキャン幅±20mmを実現しました。
磁気回路補正システムを採用することにより、従来機種ではできなかった40mm幅の大きな蒸着材料を平坦に溶かせます。
高融点材料の蒸着時や長時間蒸着時に発生する、ビームポジションの動きを抑えるため、ビームポジション安定システムを採用することにより、超多層膜蒸着を実現しました。
標準装備のポールピースカバーによってポールピースに付着する汚れだけでなく、メンテナンス時の接触等から磁気回路を保護することができ、再現性と安定性のある成膜を可能にしました。

概要

NEG-10N型電子ビーム源は、270°ビーム偏向で一般蒸着膜から光学超多層膜まで、幅広く使用できます。
特にビームスキャン幅が大きく、石英材料を確実に平坦に溶かし、低融点材料から高融点材料までの、長時間安定蒸着を実現した電子ビーム源です。

特徴

• エミッターアッセンブリの構造を、すべて面接触組立にすることで、高熱や酸化による変形が少なく、組立が簡単で、長時間安定蒸着を実現しました。
• エミッターアッセンブリに、特殊部品を使用しないことで維持費が安くなります。（消耗品はフィラメントのみ）
• ルツボ材料位置と電子ビーム源上部位置が同じ位置になり、蒸着中に発生していたトラブルを極力少なくしました。
• フィラメント交換が非常に簡単で、フィラメントが確実に固定され、長時間安定蒸着を実現しました。

仕様